新葡京官方网址

歡迎來到揚州國興技術有限企业 [官方網站]
您的位置:網站首頁 > 產品展示 > 等離子 > 真空等離子
產品分類product list
晶元等離子體處理系統GX-H80

晶元等離子體處理系統GX-H80

銷售咨詢熱線:+86 181 3605 7999

產品展示

等離子體表面處理裝置由反應腔體(又稱真空腔體)、真空系統、等離子體發生系統、電控系統、進氣流量控制系統等組成。

考慮到生產操作的簡便和效率,被處理材料的邊料節約以及該處理裝置的性價比,本裝置擬考慮採用水準式放置結構。反應腔由真空室、平板式電極組成,是等離子體(Plasma)處理反應的有效空間,待處理物品水準置於反應腔內並可以設計成多層結構便於大批量作業;真空系統由真空閥門、真空泵以及真空管路、真空系統控制執行元件等組成,負責將反應腔內的空氣抽至預先的設定值並在工作時維持相應的真空度;考慮到本裝置被處理材料要求清潔和活化作用,故本裝置的等離子體發生源擬採用波形經過特殊處理的、具有高速震盪功能的等離子體發生源,該系統源為反應腔提供等離子體能量,以激發反應腔內的被反應氣體急劇震盪電離,形成所需要的具有清潔能力的等離子體(Plasma);電控系統的作用是按照預設的工藝參數和步驟,智能最優自動控制該裝置的工藝流程的全過程,並能自整定維持工藝參數的穩定性;工藝反應氣體進氣流量控制系統主要由品質流量計和自控電磁閥門組成,其作用是精確控制反應氣體的進氣量,並維持工作期間所需要的真空度值。

本裝置採用PLC可編程式控制,人機對話採用觸摸屏設置和顯示,介面友好,處理參數可以在觸摸屏上任意設定,具有手動/自動切換功能。自動操作採用“一鍵式”,工作過程完全由電腦自動控制完成。手動操作由用戶在手動模式介面上自行完成。

晶元等离子体处理系统GX-H80


等離子體表面處理裝置主要技術參數

整機外形尺寸

660mm×950mm×1700mm(W×D×H)

真空腔體尺寸

450mm×450mm×400mm(W×D×H)

真空腔體容積

80L

水準電極尺寸

內置平板式電極,420×310mm(W×D)

可載物層數

6層

等離子體發生系統

射頻等離子源(13.56MHZ) 功率,0-500W

控制系統

觸摸屏+PLC全自動控制

進氣系統

2路進氣、1路放空                            

所有設備均可進行非標定制,其他參數,涉及到企业內部機密,請您來電諮詢。

上一條 國興技術箱式真空等離子體處理系統GX-V1503
下一條 已經是最後一篇

本文標簽:

揚州國興技術有限企业
電話:+86 181 3605 7999
地址:揚州市江都區大橋鎮309縣道陳巷組63號6號廠房(揚州工廠)
江蘇省昆山市平巷路8-4號(昆山辦事處)

掃一掃咨詢

Copyright ? 2021 揚州國興技術有限企业 All Rights Reserved  備案號:苏ICP备20012307号-2  技術支撑: 蘇州千千結昆山網站建設
XML 地图 | Sitemap 地图